![上海光刻电子科技有限公司](http://img.czvv.com/logo/4ed20654e588317d6e639e44/4ed20654e588317d6e639e44.png)
上海光刻电子科技有限公司 main business:在微电子,光电子,集成电路,计算机领域范围内的“四技”服务;计算机软硬件,集成电路,光学仪器,电子产品,仪器仪表,通讯器材(不含无线)的销售。 and other products. Company respected "practical, hard work, responsibility" spirit of enterprise, and to integrity, win-win, creating business ideas, to create a good business environment, with a new management model, perfect technology, attentive service, excellent quality of basic survival, we always adhere to customer first intentions to serve customers, persist in using their services to impress clients.
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- 有限责任公司(自然人投资或控股)
- 2000年12月15日
- 陈开盛
- 200.000000
- 2000年12月15日 至 2030年12月14日
- 黄浦区市场监管局
- 2000年12月15日
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- 在微电子、光电子、集成电路、计算机领域范围内的“四技“服务;计算机软硬件、集成电路、光学与光电子器件、传感器、电子产品、仪器仪表、节能灯和半导体照明产品的开发与销售;从事货物及技术的进出口业务。 【依法须经批准的项目,经相关部门批准后方可开展经营活动】
序号 | 公布号 | 发明名称 | 公布日期 | 摘要 |
1 | CN105891152A | 一种大量程折射率测量的方法 | 2016.08.24 | 大量程折射率测量方法属于物理测量领域。与传统的采用全反射原理、最小偏向角和迈克耳逊干涉仪的测量方法不 |
2 | CN104677315A | 硅片表面不平整度测量方法 | 2015.06.03 | 硅片表面不平整度测量方法属于物理测量领域。该方法提供一种双面金属包覆波导超高阶导模图像分析仪,用于硅 |
3 | CN104359412A | 光刻掩模版铬膜厚度测量方法 | 2015.02.18 | 光刻掩模版铬膜厚度测量方法属于物理测量领域。该方法提供一种棱镜耦合长程表面等离子共振传感器,用于石英 |
4 | CN102833925A | 旋入式单端电子镇流器 | 2012.12.19 | 本发明设计了一种旋入式单端荧光灯电子镇流器(简称电器),其电气输入,输出和控制电极分别位于上下两个同 |
5 | CN102692392A | 一种用于气体、液体折射率测量的装置 | 2012.09.26 | 一种用于气体、液体大折射率范围测量的装置。激光器发射的平行光经汇聚透镜后变成汇聚光斑,折射率测量传感 |
6 | CN102478389A | 光刻掩模版金属膜厚度测量方法 | 2012.05.30 | 光刻掩模版金属膜厚度测量方法属于物理测量领域。方法如下:用底面蒸镀金膜的三棱镜,放置于接近掩模版金属 |
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